这段代码是 _make_causal_mask
函数中处理滑动窗口局部注意力的部分。这里的目的是创建一个额外的掩码,以便在自注意力机制中只考虑每个位置附近的一定数量的位置,而不是所有之前的位置。这通常用于减少计算复杂性和提高长序列处理的效率。
代码分析如下:
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diagonal = past_key_values_length - sliding_window + 1
: 这里计算的是上三角矩阵(triu
)的开始对角线的索引。对于每个位置i
,这个滑动窗口限制它只能看到从位置i - sliding_window + 1
到位置i
的信息。如果考虑了历史键值对的长度,那么窗口将从i + past_key_values_length - sliding_window + 1
开始。 -
torch.ones_like(mask, dtype=torch.int)
: 创建一个和mask
形状相同的全是1
的张量。这将作为基础矩阵来创建上三角掩码。 -
torch.triu(...)
: 创建一个上三角矩阵,其中diagonal
参数指定了对角线的索引。对角线以上的元素全部为1,对角线以下(含对角线自身)的元素为0。这意味着对于每个位置i
,它只能关注到i - sliding_window + 1
之后的位置。 -
context_mask = 1 - torch.triu(...)